2025年2月14日，上海新阳半导体资料股份有限公司取得国家知识产权局授权的专利，触及一种193nm干法光刻胶用添加剂及其制备办法与使用，公告号为CN116144016B，请求日期为2021年11月。这一专利标志着该公司在光刻胶范畴的技能立异和商场竞赛力的提高。

  上海新阳成立于2004年，坐落上海市，专心于计算机、通讯及其他电子设备的制作，注册资本达31338.1402万人民币。公司的开展迅速，现已对外出资27家企业，并参加招投标71次，展现出强壮的商场实力。在知识产权方面，企业具有393项专利及7条商标信息，反映出其关于技能研制的注重。

  新取得的专利将为上海新阳在半导体资料范畴供给新的竞赛优势，尤其是在高端光刻胶商场中，该添加剂有望提高光刻结构的成像质量和出产功率。跟着国内半导体职业的加快速度进行开展，这项新技能的使用远景非常宽广。

  别的，上海新阳还具有102个行政许可，闪现了其在方针合规与商场运作方面的专业性。随公司技能的渐渐的提高和商场的日益扩展，估计将推进更多立异产品的落地，为半导体职业的开展注入新的动能。

  该公司在未来的开展战略中，将持续以技能立异为驱动，致力于为国内外客户供给高品质的半导体资料，逐渐提高商场占有率。此项专利的授权估计将在某些特定的程度上助力公司的品牌形象和商场竞赛力，为未来的事务拓宽奠定坚实基础。

  全体来看，上海新阳在半导体资料职业中的潜力正逐渐闪现，特别是在光刻胶等要害资料方面，其立异技能将为职业的开展注入新的生机。回来搜狐，检查更加多